《韩国经济日报》(Hankyung)表示,SK 海力士将采用台积电 N5 工艺版基础裸片(Base Die)构建 HBM4 内存。
随着3D NAND的堆叠层数越来越多,厂家门也在着手研究新的生产技术以改进效率,SK海力士就在评估东京电子最新的低温蚀刻设备,该设备可以在-70℃的低温下运行,用来生成400层以上堆叠的新型3D NAND。低温蚀刻设备的钻孔速度是
在第二季度,长期处于落后地位的 SK 海力士 (DRAM 厂商) 凭借高价值和高性能的内存 HBM 产品 (由持续热门的生成型 AI 带动) 销售火爆,使其与全球内存领导者三星电子的市场份额差距缩小至 6.3 个百分点,自 2009 年以来最
据 businesskorea 以及 etnews 报道,SK 海力士将扩展其 HBM3 后道工艺生产线,并已收到英伟达要求其送测 HBM3E 样品的请求。
7月23日消息,据国外媒体报道,特斯拉等多家公司已发布了今年二季度的财报,存储芯片供应商SK海力士,今日也公布了二季度的业绩。
5月12日消息,据国外媒体报道,SK海力士今日与韩国科学技术院(KAIST)签署关于人工智能战略合作备忘录,双方将合作利用AI技术优化半导体制造。
4月23日消息,据国外媒体报道,韩国半导体巨头SK海力士公布了2020财第一季度财报,财报显示,SK海力士第一季度净利润同比减少41%。
4月3日消息, 根据TechPowerUp的消息,SK海力士今天在博客上更新了即将发布的DDR5内存的内容,最高可达8400MHz的速度。SK海力士表示其DDR5芯片将于今年开始大规模生产。
3月30日消息,韩国半导体巨头SK海力士今日发文介绍称,旗下新款CMOS(互补金属氧化物半导体)图像传感器采用了1.0微米像素技术。
3月9日消息,据国外媒体报道,韩国半导体巨头SK海力士日前表示,该公司正在加强手机领域的CMOS(互补金属氧化物半导体)图像传感器产品,从而在快速增长的市场中得到更多份额。
2月26日消息,据国外媒体报道,韩国半导体巨头SK海力士今日发表声明称,部分媒体对公司存储器规格和AMD下一代GPU报道不实。
2月24日消息,据国外媒体报道,受新型冠状病毒疫情影响,韩国半导体巨头SK海力士800多名员工正进行隔离。不过该公司表示,目前不影响运营。
7月27日消息,据国外媒体报道,芯片制造商SK海力士计划今年将3D NAND闪存产能削减15%,以放缓产能扩张速度。这一数据高于此前计划的10%。
SK海力士近日公布了第一颗DDR5-6400内存芯片,频率高达6400MHz,是现在多数DDR4内存的两倍左右,而单颗容量为16Gb(2GB)。
这两年,DRAM内存、NAND闪存市场跌宕起伏,也带动内存条、固态硬盘持续动荡,而作为掌握核心芯片资源的三星电子、SK海力士、美光等巨头,自然是赚得盆满钵满,甚至不惜刻意压制产能来把控市场。
本周,JEDEC(固态存储协会)正式发布了LPDDR5低功耗内存标准,最高频率设计为6400MHz,比第一代LPDDR4翻番,将为手机、平板、汽车等产品驱动更高性能提供保障。
2月21日消息,据国外媒体报道,韩国存储芯片制造商SK海力士当地时间周四表示,其将投资1070亿美元建设四座内存芯片工厂。
2月21日消息,据国外媒体报道,全球第二大存储芯片制造商SK海力士周四表示,公司计划在2022年后投资120万亿韩元(约合1066.6亿美元)在韩国新建四座半导体晶圆厂。
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